신소재공학실험 | 미세 조직 관찰 및 화상분석

 

 

 

TIP

 

 

전자현미경 중에서 재료의 표면 형상을 고배율로 관찰할 수 있는 주사전자현미경(scanning electron microscope)의 사용법과 이를 위한 시편 준비 방법, 미세조직의 화상분석 방법 등을 배운다.

 

 

 

플라즈마 코팅

본질적으로 Ion Beam Sputtering은 Diode Sputtering의 한 유형이다. 일반 플라즈마를 대신하여 가변적인 에너지를 갖는 넓은 이온빔 소스는 target쪽으로 가속화된 이온을 제공한다. Target과 기판은 일반적으로 평행하고 이온이 45도로 주입된다. 튕겨져 나간 target원자는 박막으로 기판 위에 증착된다. 더욱이 활동적인 배경가스를 사용하면, 반응성 이온빔 스퍼터링이 가능하다. 이 기술은 자성물질의 박막을 필요로 하는 용도에 매우 성공적이었다.(일반적인 마그네트론 스퍼터링의 자기장은 부분적으로 혹은 전체적으로 자성 target에 의해 비껴지게 된다.)

728x90

 

 

실험 방법

1. 시편 준비

1) 연마할 시편과 연마기를 준비한다

 

2) 시편을 100마이크로 연마기에서 정면, 90도, 45도, 반대편 45도를 돌아가면서 연마한다.

 

3) 100마이크로에서 연마한 시편을 50마이크로, 6마이크로, 3마이크로, 1마이크로 순으로 연마한다.

 

2. 폴리싱

1) 폴리싱은 연마제가 큰 것부터 작은 것으로 해나간다 두 번의 실험에 걸쳐 100마이크로와 50마이크로 6마이크로, 3마이크로, 1마이크로의 순으로 연마를 해나간다. 넓은 부분을 폴리싱 하기 시작하였다. 각도를 돌려가면서 폴리싱해라는 말씀에 따라 여러 방향으로 돌려가면서 폴리싱을 하기 시작했다.

 

2) 100마이크로에서 세라믹의 검은색 표면을 제거 한 후 50마이크로로 이동하여 폴리싱을 시작하였다. 조금씩 세라믹의 표면의 색깔이 달라지기 시작하였다. 그런데 표면의 주변에는 아직 검은색의 표면을 유지하고 있었다. 나중에는 45도씩 시간을 재어 가면서 연마하게 되었다. 20 여분 가량 폴리싱을 하고 나서야 6마이크로로 넘어갈 수 있었다.

 

3) 다이아몬드 입자를 6마이크로 만든 가루 연마제를 뿌려 연마를 하였다. 6마이크로 다이아몬드 분말을 뿌린 연마기에서 아직은 조금 커 보이는 흠집들을 제거해 나갔다. 이렇게 3마이크로로 넣어간 다음 1마이크로 까지 폴리싱을 한다.

 

 

 

[신소재공학실험]미세 조직 관찰 및 화상분석 레포트