반응형 반도체공학실험 | 반도체 패터닝 실험 기구 및 장치 1. 실험 장비 먼저 왼쪽 동그란 원통모형이 메인챔버(main chamber)이다. 메인챔버에서는 식각이 일어난다. 메인챔버 아래는 진공펌프가 존재하여 메인챔버를 진공상태로 유지시켜주는 장치가 있다. 진공펌프 쪽에서는 기체의 압력을 조절 할 수 있는 밸브가 따로 있다. 오른쪽 표면코팅및식각장치 아래에 메인 스위치가 존재하고, 그 아래에는 기체가 흐름을 조절 할 수 있는 컨트롤러가 있다. 그 아래에는 진공펌프와 기체가 흐르는 통로의 밸브를 온오프 할 수 있는 버튼이 있고 그 아래는 플라즈마를 생성시킬 때 얼마만큼의 power을 줄 수 있을지 조절하는 파워 컨트롤러가 있다. 2. 실험 시약 1) Silicon wafers : 고순도의 실리콘을 녹여 절단 연마 등의 공정을 거친 얇은 실리콘.. Engineering/신소재 공학 2022. 9. 10. 신소재공학실험 | 진공 및 박막 실험 진공의 이용 현재 전구나 각종 진공관을 비롯하여, 진공 속에서 물질을 증발시켜 그 속에 놓아 둔 물체 표면에 균일한 막을 입히는 진공증착법(眞空蒸着法)이 개발되어 렌즈의 반사방 지막이나 반사경 제조 등 광학공업에 획기적인 기술상 진보를 가져왔다. 또 진공 상태의 물질은 가열하지 않아도 잘 건조되므로, 혈액 보존을 비롯하여 페니 실린 등 고온으로 가열하면 효력을 잃어버리는 약품 농축 등에도 진공기술을 응용하 고 있으며, 비타민을 파괴하지 않고도 식품을 건조시키는 기술도 개발되어 임상의학· 약품공업·식품공업에 크게 이바지하고 있다. 진공의 측정 진공의 정도는 일반적으로 진공 용기속에 남아 있는 기체의 압력으로 표현되는데 우 선 압력을 직접 측정하는 경우와 기체가 지닌 다른 물리적 특성을 이용하여 간접적으 로.. Engineering/신소재 공학 2022. 9. 3. 신소재공학실험 | 박막 실험 현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화 및 대형화 추세에 따라 그 이용가치는 더욱 증대되고 있다. 본 연구에서는 TFT-LCD용 color filter제조시 ITO 박막 형성을 위해 사용하는 magnetron sputter내부의 플라즈마 분포 및 ion kinetic energy에 대한 해석을 실시 하였으며, ITO target의 erosion형상의 원인을 실험결과와 비교하였다. magnetron sputter은 target에 가해지는 기본 전압에 의해 target과 shield 혹은 target과 substrate 사이에서 생성될 수 있는 플라즈마 사이의 전위차에 의.. Engineering/신소재 공학 2022. 9. 2. 이전 1 다음 반응형