반응형 재료공학개론 | Photolithography and Hall effect Photolithography 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 것이다. Photolithography는 일반사진의 film에 해당하는 photo resist를 도포하는 PR 도포공정, mask를 이용하여 선택적으로 빛을 조사하는 노광공정, 다음에 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 pattern을 형성시키는 현상공정으로 구성된다. Cleaning 공정 Wafer에 잔류한 유기, 무기질의 불순물(solvent, hydrous, ionic contamination) 등.. Engineering/재료 공학 2020. 1. 5. 고분자, 재료 공학 | DSC/TGA를 이용한 고분자 유기재료의 열적 성질 분석 TIP 1. 물질(materials)의 열에 의한 전이현상을 이해한다. 2. DSC/DTA/TGA 등 열분석기기의 원리를 이해한다. 3. 고분자의 열에 의한 전이현상 중 Tm, Tg, 결정화도의 변화를 이해한다. 4. DSC/DTA/TGA를 통한 고분자의 열적, 물리적 성질 측정으로부터 고분자의 전이에 대한 정보를 얻는다. 열분석 1. DSC : 온도를 변화시켜 가면서 시료로부터/시료로 흐르는 열의 양(dQ/dt)을 측정하는 방법 2. DTA : 온도를 변화시켜 가면서 시료와 기준물질 사이의 온도차(dT)를 측정하는 방법. 2. TGA 열 무게 측정분석(Thermogravimetric analysis, TGA)은 온도변화에 따른 시료의 무게변화를 측정하여 분석하는 방법이다. 실험 방법 1. 실험 과정 1.. Engineering/고분자공학 2019. 10. 13. 이전 1 다음 반응형